昨天，估计关注光刻机消息的网友，都应该看一则新闻，那就是国内知名光刻机厂商，上海微电子装备（集团）股份有限公司（下称上海微电子）中标了一台步进扫描式光刻机，中标金额约1.09亿元。
一时之间，网络炸了，资本市场上也炸了，很多与光刻机相关的概率公司，都拉了一波。
那么问题就来了，这台步进式光刻机，究竟是什么来头，性能如何，能不能制造7nm的芯片，这个还真是网友们关心的问题。
首先要说的是，可能让大家失望了，这台步进式光刻机主要功能可能并不是用来制造先进芯片的，更多的还是用于后道的芯片封装的，属于后道光刻机，制造芯片的光刻机，称之为前道光刻机。
另外，这台光刻机，还属于KrF光刻机范畴，采用的是248nm KrF光源。
在它之上，还有ArF光刻机，也就是我们熟悉的采用193nm波长的DUV光刻机。
再之上，还有浸润式DUV光刻机，也就是ArFi光刻机，采用193nm波长，但是经过水介质后，等效行134nm波长的光源了。
再之上，才是EUV光刻机，采用13.5nm波长的光源，所以如果从这一些来看，这台KrF光刻机，如果单从先进程度来看，称不上先进。
另外，从媒体的报道来看，这台光刻机，248nm 光源，分辨率为110nm，可以完成Chiplet芯片间的精准对位、重布线层（RDL）刻画、凸点（Bumping）成型，实现2.5D/3D异构封装。
当然，拿去制造芯片也并不是不可能，但是基于其KrF光源本身，也就是能够制造110nm左右的芯片，性能还真称不上先进。
所以，如果你要问它具体有多先进，能不能制造7nm芯片，那就是真的想错了方向了，它的意义不在这里。
它的真正意义，不是说去与ASML比性能，比技术，最大的意义是实现国产替代，让国产厂商以更低的价格，买到可用的国产光刻机，而不是只能买国外的品牌了。
目前像国外的ASML或尼康、佳能的同类型的光刻机，其售价超过了3000万美元美元，而上海微电子的只要1.1亿元，相当于1500万美元，便宜了一半，这个才是其最大意义。
这台光刻机要的效果，也不是所谓的从性能上超过ASML，这个还真不现实，它是在特定赛道上实现了可替代的突破。